假使大众关切光刻机，必定在网上据说过一句话，讲是ASML讽刺华夏光刻机的：
这句话真相ASML有没有说，就无从考证了。然而上海微电子的创造人&董事长兼总经理贺荣明曾在竟然场关表示，公司刚成马上，他带队去欧洲考察，讲要造光刻机时，欧洲的光刻机老手凿凿说过如许的话。
当然，今朝看起来，这句话即是笑话，情由上海微电子依然造出了光刻机，只管精度还在90nm，但就是造了出来。
但从这句话，仍然或许看出，华夏光刻机在当年，究竟有多难，欧洲对华夏要造光刻机，有多无视。
美国造出环球第一台光刻机是在1961年，是美国的GCA公司造出来的，这是一台构兵式光刻机，曝光精度1um，线寸的晶圆片。
而中国据说第一台兵戈式光刻机是在1966年摆布造出来的，由中国科学院微电子摸索所与上海光学仪器厂互助，造出了一台65型战争式光刻机。
自后美国在70年月，造出了接近式光刻机，厥后在70年代末又推出了撒布式光刻机……
但其时的中国着实到底薄，半导体也没赢得浸视，差未几是0，又加上美国对中国推论手段紧闭，良多人连光刻机是什么都不剖析，更不要说去造了。
因而良多年来，国内不停障碍在打仗式光刻机，没有新的开展。更告急的是，当时中国芯片缔造也没跟上光阴，这台征战式光刻机，也没有大范围的安排，更多是用于摸索，和产业化临蓐没有关联。
直到70年代末，中国科技界发觉半导体越来越紧张，而半导体离不开光刻机，才通晓提出要修改光刻征战，尽速赶超寰宇先进秤谌。
因而清华大学严密仪器系，中电科等科研机构再次发力，公众纷繁初阶研发新型光刻机。
据称1980年清华大学的研发团队研发出了散布式投影光刻机，而到1985年中电科45所也研发出了撒播式投影光刻机，其机能与美国GCA公司在1978年推出的差未几，也便是只落后了7年安排。
但如故像之前彷佛，国内的芯片产业自己就不荣华，研制出光刻机，也是用于理论寻找，基本就没有放到晶圆厂大范围独揽，而挣脱物业生产的光刻机，财产化继续作茧自缚，基本上是为了造而造，不是为了市场需要而造。
而80年头后，国内又兴起了一股引进潮，谈得不悦耳一点，即是“造不如买”，惟有有钱，就或许从美国、日本、欧洲买到光刻机，以及全套的芯片出产线，那还造什么造？
于是底本只过期几年的光刻机机谋，以及国产芯片资产，在那10多年间，再次自作自受了，被美国、欧洲、日本、韩国超过，并甩到了脑后。
直到1999年，科索沃斗争出现，这场屠杀中，美国用电子新闻法子，瘫痪了南定约几乎全盘麇集体系。
这让国内科技界确实器重起电子、讯休、半导体财产了，同时也改动了思想，那即是“买不如造”，原因买的器材不是自己的，一旦和美国闹翻，国家消息安好将面临苛沉挟制。
因此研制进取的光刻机再次被提出来，并被出席了“863庞大科技攻关安排”。
在2002年的时间，担当攻坚项目办事的上海微电子安装(大伙)股份有限公司就这样正式成立了，总经理就是贺荣明，公司建设后，全班人们就带着措施团队去欧洲、美国观察学习，欧洲内行很瞧不起全班人，于是就谈出了：给全套图纸，华夏人也造不出光刻机的话。
上海微电子建设后，想要造的光刻机，是193nm光源的干式光刻机，但此时仍然落伍国际秤谌20多年了，来由像尼康、佳能还是在20多年前就搜索193nm的光刻机了，正在向165nm进发。
而ASML此时更是联手台积电，转向重润式光刻机，用水为介质，要跳过165nm，用水为介质，让193nm光源直接等效于134nm光源的光刻机。
戮力了5年，2007年上海微电子的光刻机研制成功，但要点器件紧要基础于美国、欧洲等，美国对其实行了禁运，所以尽管研制出来了，如故无法量产，可是空中楼阁。
接下来的时刻，上海微电子只能与国内供给链一同，攻关各样枢纽质料，竣工国产，解脱对西方元件的寄予，这一死力又是10年，直到2016年，上海微电子193nm光源的90nm精度的干式光刻机，才竣工通盘量产。
厥后的故事民众都通晓，由于光刻机的重点元件、伎俩不停被紧合，所以上海微电子的光刻机伎俩，也不停没有太多的降低，权且最高精度为90nm。
更急急的是，光刻机的降低必需要跟从财产的提高，权且国内的晶圆筑设征战，基本上都是起源于西方，光刻机与此外制造是配套的，公共买ASML的、尼康的、佳能的，根基不必国产的。
再加上美国禁运、手段范围，国产光刻机到此刻，仍旧过期外洋20年，可能叙还没有总共走出窘境。
只是，而今大家都贯通了一点，那就是“买不如造”，惟有自己据有的，手腕不被卡脖子，因此光刻机项目取得了亘古未有的沉视，继续在戮力追赶。
更垂危的是，芯片产业也解析的领悟，只要本身的才是能够掌控的，也越来越多的操纵国产光刻机，让其家当化。但说实话，要追上国际水平，还得不停戮力，况且能够还得很多年，得坐得住冷板凳才行。
